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pecvd 增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積

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pecvd 增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積

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詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹


BTE-PECVD是我公司研發(fā)的一款單溫區(qū)的PECVD管式爐系統(tǒng),它是由射頻電源系統(tǒng),加熱系統(tǒng)、多通道質(zhì)子混氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成。此款PECVD系統(tǒng)對于生長納米線、石墨烯或SiC薄膜是一個很好的實驗幫手。

產(chǎn)品特點


1.該設(shè)備生長溫度更低
2.使用滑軌爐實現(xiàn)快速升溫和降溫,沉積速率快
3.設(shè)備輝光均勻等效,均勻生長,成膜質(zhì)量好
4.支持外部真空規(guī)和壓力變送器
5.支持智能進(jìn)氣,根據(jù)需要設(shè)定不同的溫度,自動進(jìn)氣,進(jìn)氣定時間到后自動停止進(jìn)氣
6.支持云端數(shù)據(jù)存儲,隨時查看數(shù)據(jù)
7.支持爐膛移動速度調(diào)節(jié)
8.支持射頻電源根據(jù)外部工況條件自動啟動停止
9.支持壓力恒定,壓力可以設(shè)定
10.支持超壓保護(hù),最大壓力值可以設(shè)定,超過后系統(tǒng)自動進(jìn)入保護(hù)狀態(tài)
 

設(shè)備參數(shù)

 
型號 最高溫度℃ 爐膛尺寸mm 整機(jī)功率KW 射頻電源 流量計 流量計
BTE-PECVD1200-Ⅰ 1200 80*2000 4 射頻電源:300W 質(zhì)子流量:3路 真空系統(tǒng):TRP-12,3l/s真空測量:0.01Pa-200Kpa
系統(tǒng)真空度:5Pa
BTE-PECVD1200-Ⅱ 1200 80*2000 4 質(zhì)子流量:3路
BTE-PECVD1200-Ⅲ 1200 80*2000 6 射頻電源:500W 質(zhì)子流量:4路
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